與電弧PVD工藝不同，在濺射PVD工藝中，涂層材料并沒有被首先熔化后變?yōu)闅怏w，而是從固體直接轉(zhuǎn)變?yōu)闅怏w狀態(tài)。因此能夠確保在整個(gè)氣化過程中不形成液滴（在涂層表面的珠形微粒子），并因此而生成非常光滑的涂層表面。此外，生產(chǎn)濺射PVD涂層的溫度范圍大大低于CVD工藝所需的溫度范圍。從理論上說，濺射PVD涂層對于元素的選擇沒有限制–這點(diǎn)完全區(qū)別于電弧PVD和CVD工藝。濺射技術(shù)打開了對涂層材料進(jìn)行無限選擇和組合的大門。

濺射技術(shù)的市場領(lǐng)跑者

20年以來，濺射PVD工藝已經(jīng)構(gòu)成了高品質(zhì)涂層的基礎(chǔ)。在此期間，我們開發(fā)的涂層系統(tǒng)第一次使對新材料的經(jīng)濟(jì)加工成為可能，并可明顯改善刀具的使用性能。

我們擁有的在涂層、工藝和技術(shù)方面的多項(xiàng)專利證明了我們無可比擬的市場領(lǐng)跑者的地位。早在1988年，CemeCon就已經(jīng)在TiAlN涂層的工業(yè)規(guī)?；瘧?yīng)用方面取得了成功。

CemeCon涂層系統(tǒng)的優(yōu)點(diǎn)：

表面極其光滑

高硬度和高熱硬性

結(jié)合力超強(qiáng)

抗氧化溫度高

低摩擦系數(shù)

極小的內(nèi)應(yīng)力

對刃口鈍化小

具有成本效益的大批量與小批量的生產(chǎn)

靈活選擇涂層材料

確保一個(gè)美好的未來，幾乎可以在任何基體上涂覆任何涂層材料

PVD濺射工藝

生產(chǎn)出極其光滑的涂層